PWODWI
Fonksyon
Fòmil lineyè: | TaNb |
Estanda: | ASTM B708 |
Pite: | Pi gran pase oswa egal a 99.9 pousan oswa 99.95 pousan |
Gwosè: | Sikilè sib sputtering Tantal: Dyamèt 15mm-400mm x Epesè 1mm-28mm Rektangilè sib sputtering Tantal: Epesè 1mm-40mm x Lajè max 1000mm x Longè max 3000mm |
Klas materyèl: | R05240 (Ta-40Nb) Tantal Niobyòm Alloy, 60 pousan tantal, 40 pousan niobyòm, gwo founo elèktron-oswa fonn vakyòm-arc. |
Tantal Niobium Alloy Disk Deskripsyon
Endistriyèl Tantal pi bon kalite gen fòs ki ba, apeprè mwatye nan asye kabòn, ak pòv rezistans oksidasyon nan tanperati ki wo nan lè a, kidonk itilizasyon jeni li yo limite. Anplis de sa nan eleman alyaj ka siyifikativman ranfòse Tantal ak amelyore kapasite antioksidan li yo. Aplikasyon Jeni se sitou alyaj Tantal.
Se preparasyon an nan Tantal ak alyaj Tantal anjeneral te pote soti nan yon gwo founo dife elèktron. Yo nan lòd yo jwenn yon ingot inifòm nan gwo founo dife elèktron, k ap fonn vakyòm nan te pote soti. Tout alyaj Tantal ak Tantal yo pral jete nan yon gwo founo elèktron, kòm si wi ou non yo itilize vakyòm arc k ap fonn (VAR) an menm tan an, epi kantite tan k ap fonn yo detèmine dapre itilizasyon pwodwi espesifik la.
Pami alyaj Ta-Nb seri, Ta-40Nb se yon alyaj ki fèk devlope ak pri ki ba epi sitou itilize nan endistri chimik.
Nou bay pi bon kalite Tantal disk & Tantal sputtering sib. Tantal tengstèn ak Tantal niobyòm alyaj disk yo tou sou lis pwodwi nou an.
Konpozisyon chimik
Eleman | C | O | N | H | Fe | Mo | Nb | Ni | Si | Ti | W |
R05240 | 0.01 | 0.02 | 0.01 | 0.0015 | 0.01 | 0.02 | 35.0–42.0 | 0.01 | 0.005 | 0.01 | 0.05 |
Tantal Niobium Alloy Disk Aplikasyon ak endistri ki gen rapò
● Sputtering Sib
● Chofaj echanjeur ak eleman chofaj nan pwosesis chimik
● Rechèch ak laboratwa
● Enèji
● Aerospace
● Elektwon
● Chimik
Baj popilè: Tantal niobyòm alyaj disk, Lachin, Swèd, achte, pou vann, te fè nan peyi Lachin
Ou ka renmen tou
Voye rechèch
